China începe producția propriilor echipamente avansate pentru cipuri. Tehnologia poate reduce dependența de furnizorii occidentali

Primele sisteme ar urma să ajungă în acest an la marii producători chinezi de cipuri, potrivit Reuters. Printre beneficiari se numără SMIC, Hua Hong Semiconductor și producătorul de memorii ChangXin Memory Technologies.

Producătorul chinez nu a fost identificat

Compania care dezvoltă echipamentele este susținută de statul chinez, însă numele său nu a fost dezvăluit. Sursele au invocat sensibilitatea proiectului și importanța sa pentru industria tehnologică națională.

Noua tehnologie ar putea concura în timp cu echipamentele ASML vândute pe piața chineză. Sistemul rămâne însă în urmă privind performanța, fiabilitatea și nivelul testelor necesare producției industriale.

Avantajele tehnologice ale companiei olandeze rămân astfel intacte pentru moment. Echipamentele chinezești vor avea nevoie de îmbunătățiri înaintea extinderii producției la scară mare.

Producția va fi limitată în primii ani

China ar urma să fabrice aproximativ cinci echipamente DUV cu imersie în cursul acestui an. Producția ar putea crește la aproximativ 20 de sisteme în 2027. Volumele inițiale vor rămâne reduse comparativ cu necesarul industriei chineze de semiconductori. Totuși, proiectul reprezintă un pas important către dezvoltarea unui lanț intern de echipamente.

Mașinile DUV cu imersie imprimă modele de circuite pe plachetele de siliciu folosite pentru cipuri. Acestea sunt cele mai avansate sisteme disponibile acum producătorilor chinezi.

Restricțiile au blocat accesul Chinei la tehnologia EUV

Companiile chineze nu mai pot cumpăra echipamentele de litografie EUV, considerate cele mai avansate din industrie. Accesul a fost limitat prin restricțiile occidentale asupra exporturilor de tehnologii sensibile. Echipamentele EUV permit fabricarea unor cipuri mai avansate și mai eficiente. ASML este singura companie care produce asemenea sisteme la scară comercială.

China dezvoltă separat și un echipament intern de litografie EUV. Proiectul se află însă în etapa de prototip și nu este pregătit pentru producție.

Beijingul caută o alternativă la tehnologia occidentală

Echipamentele produse intern ar putea oferi fabricilor chineze o sursă alternativă pentru tehnologiile esențiale. Importanța proiectului crește odată cu posibilitatea introducerii unor restricții americane suplimentare.

Statele Unite analizează limitarea exporturilor străine de echipamente pentru litografie către China. Măsurile ar putea viza inclusiv serviciile de întreținere pentru sistemele deja instalate. O alternativă internă ar reduce vulnerabilitatea companiilor chineze în fața acestor restricții. Totuși, capacitatea redusă și diferențele tehnologice limitează impactul imediat al proiectului.

Acțiunile ASML și ale furnizorilor europeni au scăzut

Informațiile despre proiectul chinez au afectat acțiunile companiilor europene din industria echipamentelor pentru semiconductori. Titlurile ASML au scăzut cu peste 7% după apariția informației.

Compania olandeză se îndrepta către cea mai slabă ședință bursieră din 8 iunie. ASML a refuzat să comenteze informațiile privind noile echipamente chinezești. Acțiunile BE Semiconductor Industries au pierdut aproximativ 8,5%, iar Soitec a coborât cu 5%. Infineon Technologies a înregistrat o scădere de aproape 3%.

Dezvoltarea tehnologiei interne poate schimba treptat piața chineză a echipamentelor pentru semiconductori. ASML păstrează însă un avantaj important privind performanța, fiabilitatea și capacitatea de producție.